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真空鍍膜機的具體操作步驟介紹
日期：2023-07-26 15:04
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摘要：
真空鍍膜機的具體操作步驟：
將待處理的基板放置在真空鍍膜室內，通常采用夾具或支架固定。然后，關閉鍍膜室門并確保密封性良好，啟動真空泵，開始抽取氣體。在抽取氣體的同時，可以啟動加熱系統，根據需要調整溫度，以提供合適的鍍膜條件。
當達到所需的真空度后，開始進行鍍膜操作。首先，打開相應的鍍膜源，將鍍膜材料加熱至適當溫度，使其蒸發或濺射出來。鍍膜材料的選擇取決于所需的鍍膜效果和要求。然后，將蒸發或濺射的材料沉積在基板表面上，形成薄膜層。在鍍膜過程中，可以根據需要進行多次沉積，以獲得所需的膜層厚度。
鍍膜完畢后，關閉鍍膜源，停止加熱并關閉真空泵。等待真空鍍膜室內氣體恢復正常壓力后，打開室門，取出處理好的基板。此時，可以進行必要的清潔和檢查工作，確保鍍膜質量符合要求。
